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【行业标准发布】景颐光电深度参与起草《薄膜干涉膜厚测量系统校准规范》正式实施

2026-03-17

重磅喜讯

今日,由中国国际经济技术合作促进会批准发布的团体标准《薄膜干涉膜厚测量系统校准规范》(T/CIET 22982026)正式发布并实施!广州景颐光电科技有限公司作为核心起草单位为什么这个标准很重要?

长期以来,薄膜干涉膜厚测量系统(Spectral Reflectance/Transmittance Interferometry)在半导体前道工艺、光学镀膜质量控制、新型显示材料研发等领域的应用日益广泛,但国内始终缺乏统一的计量校准规范。不同厂商设备间测量结果可比性差、量值溯源链不完整,已成为制约高端制造业高质量发展的瓶颈。

此次发布的T/CIET 22982026标准,首次系统构建了分光干涉式膜厚测量系统的全链条计量技术体系。

核心技术亮点解析

宽域分级量程体系

标准创新性将10nm~1mm的超大测量范围划分为四个量程段:

I段(10-100nm)与II段(100nm-10μm):采用方法I(基于物理模型光谱反演),应对干涉周期不完整场景

III段(10-100μm)与IV段(100μm-1mm):采用方法II(基于FFT频谱分析),处理多周期干涉信号

�� 全波段差异化指标

针对190-2000nm工作波段,按光学特性划分为:

A段(190-360nm,紫外):波长示值误差±0.3nm,光谱反射比重复性≤0.1%

B段(360-900nm,可见-近红外):波长示值误差±0.5nm,厚度测量误差±0.2%

C段(900-2000nm,近红外):针对厚膜测量优化,波长重复性≤0.5nm

完整计量特性框架

标准系统规定了波长示值误差、光谱带宽、光谱反射(透射)比示值误差与重复性、厚度测量示值误差与稳定性等10项关键计量指标,并提供了基于GUM法的不确定度评定示例(附录C),确保校准结果的计量溯源性。

景颐光电的技术贡献

作为标准起草单位中专注于光谱检测与光学精密测量的代表,景颐光电技术团队深度参与了:

✅ 光谱反射/透射比测量准确性验证:针对标准板校准流程,提供了多波段反射率标准值的不确定度评估方案

✅ 系统重复性与稳定性测试方法:制定了1h5组测量、每组10次的稳定性评价规范

✅ 厚度标准片选型技术方案:参与附录A中关于层叠式、空气间隙式、薄片式三类标准器具的技术要求制定

我们将多年来在薄膜干涉光谱分析、光学常数反演算法、系统误差修正等领域的技术积累转化为标准条款,确保了规范的科学性与工程实用性。

行业价值与应用前景

本标准的实施将带来三大变革:

1 计量溯源链贯通:为国产薄膜测厚仪提供了从波长标准(汞灯/氦氖激光器)到厚度标准(经椭偏仪/干涉仪定值的标准片)的完整校准路径

2跨平台数据可比:统一了反射式与透射式两种结构形式的评价指标,解决了不同品牌设备间"测不准、对不上"的历史难题

3 产业质量基线提升:在半导体SiO₂栅氧化层厚度控制、光学增透膜镀膜监控、VCSEL芯片外延层检测等场景中,可将膜厚测量不确定度控制在1nm(纳米级)或0.2%(微米级)水平

结语

技术立标,质量先行!T/CIET 22982026的发布标志着我国薄膜干涉测量技术迈入标准化新阶段。景颐光电将继续深耕精密光谱检测技术,以标准引领创新,以计量夯实质量,为中国高端装备制造业的转型升级贡献光学力量!

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官网链接:https://www.gzjygd.com/#section-2

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