• 品牌标识：JINGYI 景颐
• 产品名称：膜厚测量仪 FILMTHICK-C10
• 核心特性：
  • 复杂建模分析
  • 纳米级高精度
  • 膜厚解析算法
  • 精密光谱干涉测厚法
  • 千赫兹光谱采样速率

产品简介

• 景颐光电膜厚测量仪FILMTHICK-C10利用光干涉原理，机械结构集成的进口卤钨灯光源，使用寿命超过10000小时。
  FILMTHICK对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。可应用于半导体薄膜、液晶显示、光学镀膜、生物医学等薄膜层的厚度测量。OPTICAFILMTEST光学膜厚测量软件采用FFT傅里叶法、极值法、拟合法多种高精度算法，包含了类型丰富的材料折射率数据库，开放式材料数据库，有效地协助用户进行测试分析，测量期间能实时显示干涉、FFT波谱和膜厚等趋势。

应用领域

• 行业分类与应用：
  • 半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、氧化物/氮化物工艺薄膜、介电材料、硅或其他半导体膜层
  • 液晶显示：OLED、玻璃厚度、聚酰亚胺、LCD TFT、ITO与其他TCO
  • 光学镀层：HC硬涂层、AR抗反射层、AG防眩光涂层、滤光片、眼镜
  • 生物医学：Parylene派瑞林、聚合物、生物膜、医疗设备
  • 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜

行业案例

• 案例列表（样品名称与厚度）：
  • 氟塑料薄膜：厚度: 162um
  • 光刻胶：厚度: 72nm
  • 派瑞林(parylene)：厚度: 2496nm
  • ITO膜 氧化铟锡：厚度: 36nm
  • SiO2 二氧化硅 硅晶圆：厚度: 2108nm
  • 钙钛矿：厚度: 16.7nm
  • 量子点：厚度: 38.3nm
  • PI膜：厚度: 30628nm
  • 聚氨脂：厚度: 26480nm
  • HC硬化层：厚度: 52360nm
  • 微流控涂层：厚度: 3012nm
  • PDMS薄膜 聚二甲基硅氧烷：厚度: 10.8nm

产品特性

• 特性1：采用高强度氘钨灯光源，光谱覆盖深紫外到近红外范围（图表显示波长范围从190nm至2500nm，涵盖DUV, UV, Visible Light, NIR等区域）。
• 特性2：基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析膜层厚度（配图示意入射光、反射光、薄膜与基底的光路图）。
• 特性3：配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息（包含曲线拟合分析法和FFT快速傅里叶解析法的示意图）。

产品参数

• 参数表格：
  
  

  型号	C10-UV	C10-UVX	C10	C10-NIRX	C10-NIR
  波长范围	190-1100nm	190-1700nm	380-1100nm	380-1700nm	950-1700nm
  光源	氘灯+卤钨灯	卤钨灯	卤钨灯	卤钨灯	卤钨灯
  厚度范围	1nm-40um	1nm-250um	10nm-100um	10um-250um	100um-250um
  精度	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
  光斑大小	标准1.5mm (可选配至10um)
  样品尺寸	标准300mm (可选配)
  测试时间	优于0.1秒
  光源寿命	10000小时

型号规格

• 规格表格：
  型号	厚度范围*	波长范围
  C10-UV	1nm-40um	190-1100nm
  C10-UVX	1nm-250um	190-1700nm
  C10	10nm-100um	380-1100nm
  C10-NIRX	10um-250um	380-1700nm
  C10-NIR	100um-250um	950-1700nm

• 注脚：*取决于薄膜种类

合作客户

客户Logo/名称：

• • HUAWEI (华为)
  • 中国科学院上海技术物理研究所 (SITP)
  • 北京大学 (PEKING UNIVERSITY)
  • 清华大学 (Tsinghua University)
  • JCET
  • CATL 宁德时代
  • BYD
  • 中国航天 (Aerospace China)