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《芯片制造的“纳米标尺”:膜厚测量技术全景》

2025-11-18

在当今科技飞速发展的时代

 

薄膜测量领域的核心技术

光干涉原理是膜厚测定仪的核心技术基础。景颐光电的膜厚测定仪 FILMTHICK - C10 通过精确的光学设计和先进的算法实现高精度测量,其机械结构集成进口卤钨灯光源,使用寿命超 10000 小时。

设备的卓越性能特点

采用非接触式测量方式避免样品损伤,特别适合珍贵或易碎样本。无损测量技术完整保留样品结构和性能参数,具备超高测量精度满足各类精密检测需求。

 

多元化的测量参数体系

可测量薄膜厚度、反射率和颜色等参数。在半导体薄膜领域为生产工艺优化提供可靠数据支撑,在液晶显示领域保障显示屏光学性能,同时在光学镀膜、生物医学领域发挥重要作用。

 

先进的配套测量软件

OPTICAFILMTEST 光学膜厚测量软件集 FFT 傅里叶法、极值法、拟合法等算法于一体,配备材料折射率数据库并支持参数自定义。实时显示干涉谱、FFT 波谱和膜厚趋势,提供直观测量分析体验。

 

科技发展推动下,FILMTHICK - C10 持续为科研创新提供精准测量支持,通过测量技术创新推动相关行业技术升级。其高扩展性设计预示着在更多新兴领域的应用潜力。

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