膜厚测量仪FILMTHICK-C20

膜厚测量仪FILMTHICK-C20

 

概述

FILMTHICK-C20 是高精度探头式光学膜厚测量设备。该设备基于成熟的反射式光谱干涉原理,采用高精度光纤探头设计,可实现薄膜厚度、折射率等参数的快速、接触式测量。

C20系列采用高强度卤钨灯光源,覆盖深紫外至近红外波段(190-1700nm),配合高性能CCD/InGaAs探测器和高速数据采集系统,具备纳米级测量精度和千赫兹级采样速率。设备采用模块化设计,核心部件可独立更换,降低维护成本,满足不同场景下的快速升级需求。

该系列产品已广泛应用于半导体晶圆检测、液晶显示面板镀层测量、光学镜片镀膜质检、生物医学薄膜分析等领域,成为行业内备受信赖的专业检测设备。

产品特点

 采用高强度/钨灯光源,光谱覆盖深紫外到近红外范围;

 

■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理,轻松解析膜层厚度

 

■ 配置强大核心分析算法:曲线拟合分析法、极值分析法、FFT分析厚膜分析薄膜的物理参数信息;

 高精度光纤探头:探头接口采用标准SMA905传输线路,确保测量稳定性和重复性

技术参数

型号

C20-UV

C20-UVX

C20

C20-NIRX

C20-NIR

波长范围

190-1100nm

190-1700nm

380-1100nm

380-1700nm

950-1700nm

光源

氘灯+卤钨灯

卤钨灯

厚度范围

1nm-40um

1nm-250um

10nm-100um

10um-250um

100um-250um

精度

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.1nm

光斑大小

标准1.5mm(可选配至10um)

样品尺寸

标准300mm(可选配)

测试时间

优于0.1秒

光源寿命

10000小时

 

型号规格

*取决于薄膜种类

型号

厚度范围*

波长范围

C20-UV

1nm-40um

190-1100nm

C20-UVX

1nm-250um

190-1700nm

C20

10nm-100um

380-1100nm

C20-NIRX

10um-250um

380-1700nm

C20-NIR

100um-250um

950-1700nm

 

 

 

 

 

应用领域

高精密膜厚测量案例

半导体(硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、氧化物/氮化物、工艺薄膜、介电材料、硅或其他半导体膜层)

液晶显示(OLED、玻璃厚度、聚酰亚胺、LCD、TFT、ITO与其他TCO)

光学镀层(HC硬涂层、AR抗反射层、AG防眩光涂层、滤光片、眼镜)

生物医学(Parylene派瑞林、聚合物、生物膜、医疗设备)

薄膜 AR膜、HC膜、PET膜)

 

 

行业案例

 

 

合作客户

华为 清华大学 北京大学  宁德时代   比亚迪   中国航天  中国科学院技术物理研究所  长电科技